1.扫描电镜 — 不可或缺的表征工具
Phenom 飞纳台式扫描电镜
在当今科学研究和工业运用中，扫描电子显微镜与能谱仪已成为材料实验室不可或缺的表征工具。荷兰飞纳台式扫描电镜（Phenom）以其前沿技能和用户友好的设计，被 1500+ 用户认可，成为科研和工业研发高效、精确材料微不雅观表征与剖析的首选。
2024 年，为您的材料实验室增购飞纳台式扫描电镜，揭开材料微不雅观天下的奥秘，加速科学创造和技能创新的步伐。
为什么选择飞纳台式扫描电镜？
1）小巧的体积
比较于传统的大型扫描电镜，荷兰飞纳台式扫描电镜的显著特点是其紧凑的设计。这意味着它不仅占用空间小，而且安装和支配的灵巧性大大增加，即便是在空间有限的实验室环境中也能轻松安置。
2）高效的性能
只管体积小巧，荷兰飞纳台式扫描电镜却能供应与大型扫描电镜相媲美的高分辨率成像能力（优于1.5nm）。此外，其快速成像（30 秒内完成）和快速抽真空（15 秒完成）的特性，使得样品的不雅观察和剖析过程更加高效。
3）电镜能谱一体机
能谱软硬件完备集成，使得能谱剖析事情更为大略、直接、高效。
4）易用的操作
飞纳电镜通过自动化，大幅简化了操作流程，即便是非专业职员也能在短韶光内节制利用方法，大幅降落了用户的学习本钱和操作难度。
荷兰飞纳台式扫描电镜——清华大学、北京大学、复旦大学、上海交通大学、中科院等顶尖高校科研单位，以及宁德时期、比亚迪、巴斯夫、微软、罗氏、默克等领先企业的共同选择。
2.台式显微 CT——人无我有，抢占先机
NEOSCAN 台式显微 CT
NEOSCAN 台式显微 CT，通过风雅的机器系统及创新的图像重修算法，在台式机的体积下实现了 2μm 的高空间分辨率。台式显微 CT 不仅实现了对样品的无损检测，更以其作为一种相对较新的表征手段在科研和工业界中独树一帜。这种新颖性本身便是其显著的上风之一，为那些寻求打破传统研究方法限定的科学家和工程师们开辟了新的视野。
2024 年，为您的材料实验室增购 NEOSCAN 台式显微 CT，意味着得到了"人无我有"的技能上风，助您在科学研究和技能创新的竞赛中霸占先机，迎来更多的创新和打破。
新颖性带来的上风
1）补充技能空缺
在许多研究领域，传统的表征手段或许难以供应足够的信息或可能对样品造成毁坏。NEOSCAN 台式显微 CT 的无损和三维成像能力，供应了一种全新的办理方案，使得研究职员能够以前所未有的办法探索材料的内部天下，提升研究成果的影响力和可见度。
2）推动创新研究
作为一种新兴的表征技能，NEOSCAN 台式显微 CT 为科学研究和产品开拓供应了新的可能性。它鼓励科学家和工程师跳出传统思维的框架，探索和实验新的研究方法与运用路子。
3）多维度参数剖析
通过对 CT 图像数据的深入剖析，研究职员可以从中提取出样品的多种物理和几何参数，如体积、表面积、孔隙率、纤维取向等。这种多维度的定量信息对付理解材料的性能和行为具有主要意义。
4）运用领域的拓展
随着科研和工业界对 NEOSCAN 台式显微 CT 技能认识的不断深入，其运用领域正迅速扩展。从对高性能材料的内部构造剖析，到在医学领域对骨组织的细致不雅观察，再到考古学中宝贵文物的无损检测，NEOSCAN 台式显微 CT 都展现出了其独到的代价和潜力。
NEOSCAN 台式显微 CT 作为一种比较新的表征手段，不仅因其无损检测能力而受到重视，更因其新颖性和独特的运用代价而成为科研和工业界的宝贵资产。
3. 原位实验样品杆——开启原位纳米/原子级剖析新时期
DENSsolutions TEM 原位样品杆
传统透射电子显微镜 (TEM) 紧张用于成像材料构造，近年来球差等前辈技能使其达到原子分辨率。然而，它们无法仿照真实环境（加热、气体、液体等），限定了运用代价。DENSsolutions 的原位透射电镜技能打破了这一瓶颈！
利用微机电系统 (MEMS) 技能，在 TEM 内实时仿照真实运用环境，将电镜从静态成像工具变身为多功能实验室。
DENSsolutions，助力您引领纳米科技前沿！
In-situ TEM原位透射电镜上风
1）真实环境
仿照冷冻、加热、加电、气体、液体等，不雅观察材料在真实条件下的行为。
2）多功能剖析
不仅成像，还能丈量性能、评估表现、优化工艺。
3）一站式平台
集成所有研发阶段，解锁前所未有的研究能力。
运用领域:
电池研究：不雅观察电池材料在事情条件下的变革，开拓新型电池。催化研究：实时监测催化剂活性位，设计高效催化剂。材料科学：探索材料在真实环境下的微不雅观行为，研发新型材料。4.SEM/TEM 样品制备——扫描电镜/透射电镜制样必备
Technoorg Linda 离子束技能
Technoorg Linda 供应专业的样品制备办理方案。 产品通过环球独家的超高能氩离子枪和低能氩离子枪，对样品进行无损研磨，风雅加工以及终极精修。详细包括SEM样品制备（SEMPrep2），FIB样品精修（Gentle Mill），TEM 样品制备（Unimill）等产品。这些产品与所有品牌的电子显微镜完备兼容，涵盖从机器样品制备到离子研磨和终极精修的全体减薄过程。适用于材料科学、生物研究、地质学、半导体和光学等多个领域。
SEMPrep2 氩离子研磨仪 —— 扫描电镜样品的高质量表面精密处理设备Gentle Mill 离子精修仪 —— 用于制备高质量 TEM/FIB 样品的离子束事情站Unimill 离子减薄仪 —— 用于 TEM/XTEM 样品制备的全自动离子束减薄系统5.原子层沉积包覆——PALD
Forge Nano 粉末原子层沉积包覆
Forge Nano 粉末包覆技能是一种基于原子层沉积（ALD）的表面涂层技能。它可在纳米尺度上实现对粉末颗粒的均匀和精确涂层包覆，提高材料的性能和稳定性。Forge Nano 的粉末包覆技能在催化剂、电池材料、陶瓷材料等领域具有广泛的运用，为这些领域的研究和工业生产供应了前辈的涂层办理方案。
6.纳米颗粒制备——纳米气溶胶沉积系统
VSParticle 纳米颗粒制备&印刷沉积系统
VSParticle 火花烧蚀纳米气溶胶沉积系统可用于 MEMS 制造气体传感器气敏涂层，电催化剂涂层的制备，是为数不多可以在常压状态下制备 20nm 以下纳米粒子的气相沉积方法。目前已在浙江大学，东南大学，北京工业大学，中科院物理所，中南大学，广东工业大学等学术机构以及企业装机。火花烧蚀沉积技能的独特性已被浩瀚学者证明，在 Nature，Matter, Advanced Functional Materials 等高水平期刊揭橥干系文章，是新型纳米制造的利器。
