增稠剂

浙江奥首材料科技申请一种硅晶片糙面减薄蚀刻液及其制备方法与应用专利显著提高蚀刻速度改进蚀刻后硅外面粗拙度

专利择要显示，本发明涉及一种硅晶片糙面减薄蚀刻液及其制备方法与运用，所述的硅晶片糙面减薄蚀刻液按照重量份打算，包括如下组分：硝酸15‑20份；纤维素类增稠剂1‑5份；酸性磷酸氟1‑5份；四氟硼酸盐1‑3份；超纯水20‑30份...

duote1232024-12-18

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